Антиоксидантна очищувальна маска для обличчя «Захист і відновлення» (50 мл)72599

Код товара: 72599
Есть в наличии
260.00 грн.    169.99 грн.
   В корзину
http://avon.tatet.ua/i4881541-antioksidantna-ochischuvalna-maska-dlya-oblichchya-zahist-i-vidnovlennya-50-ml72599.html
Заказать в 1 клик

Детокс-ефект на всі 100%*! Спробуй глиняну маску для будь-якого віку — оціни ефект очищення та детоксу шкіри.

Антиоксидантна маска Anew містить кілька активних інгредієнтів, які націлені на ретельний догляд за шкірою. Каолінова глина відповідає за глибоке очищення шкіри, без відчуття сухості і стягнутості, за звуження пор. Саліцилова кислота глибоко очищує шкіру, не сушить і не стягує її. Звужує пори. Оризанол має потужний антиоксидантний ефект і формує захисний UF-бар'єр.

ЗАСТОСУВАННЯ
Нанести на суху очищену шкіру обличчя тонким шаром. Залишити на 15 хвилин, потім ретельно змити теплою водою.
Використовувати 2-3 рази на тиждень. Потім нанести зволожувальний крем або маску з серії ANEW.
Уникати потрапляння на одяг: засіб може зафарбовувати тканини. Містить УФ-фільтр: бензофенон-3.

КРАЇНА-ВИРОБНИК
Польща